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혼상식순수제조장치

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작성자 최고관리자
댓글 0건 조회 248회 작성일 24-12-27 11:40

본문

혼상식순수제조장치

MIXED BED DEIONIZER

장치원리

강산성 양이온 교환수지와 강염기성 음이온교환수지를 동일 탑내에 혼합 충진하여 원수를 통수 시키면 원수 중의 양이온, 음이온은 각이온수지와 반응하여 순수만을 채수할 수 있는 장치이다. 그리고 일정량 순수를 채수한 뒤에는 양이온교환 수지는 5~10% 염산(Hcl)으로 재생하고, 음이온교환수지는 3~8% 가성소다(NaOH)로 재생하여 이온교환능력이 저하된 수지를 재생시켜 주어야 한다.

용도

1. 초순수 제조의 후처리용 2. 반도체세척용수 3. 도금공업용수 4. 실험실용수 5. 전착도장용수 6. 제약 및 사진공업용수 7. 각종화학공업용수

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제품설명

반응원리

- 순수제조

R(-SO₃H)₂ + Ca(HCO₃)₂ → R(-SO₃)2Ca + 2H₂CO₃ 

R(-SO₃H + NaCl → R-SO₃Na + Hcl

R≡NOH + H₂CO₃ → R≡NHCO₃ + H₂O

R≡NOH + HCl →R≡NCl + H₂O

R≡NOH+H₂SiO₃ → R≡NHSiO₃ + H₂O 

R(≡NOH)₂+ CA(HCO₃)₂ → R(≡NHCO₃)₂ + Ca(OH)₂ 

R≡NOH + NaCl → R≡NCl + NaOH

R(-SO₃H)₂+ Ca(OH)₂→ R(-SO₃H)₂CA+2H₂O

R-SO₃H + NaOH → R-SO₃NA+2H₂O


- 재생

R(-SO₃)₂Ca + HCl → R(-SO₃H)₂ + CaCl₂

R-SO₃Na + HCl → R-SO₃H + NaCl

R≡NHCO₃ + NaOH → R≡NOH + NaCl

R≡NHSiO₃ + 2NaOH → R≡NOH + Na₂SiO₃ + H₂O
 

장치규격

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